面向于急速增長的高精細化面板需求,佳能開發了MPAsp-E813系列曝光設備,主要對應*6代玻璃基板(1500mm×1850mm)的超高精細液晶面板以及OLED面板的量產。
核心結構的鏡反射(Mirror)光學系統和照明系統得到了重新設計,MPAsp-E813系列實現了目前***高水準的解像力性能,既1.5μm(Line/Space)和2.0μm(Contact Hole),這也意味著可以量產800ppi(Pixel Per Inch)以上的超高精細面板。而佳能*貫堅持的無拼接式*次性曝光光學系統,使得高解像力性能與生產安定性得到了并存。在結構方面,剛性的強化提升了承載臺的移動精度,因此稼動率擁有了更好的表現。其他方面,新型的倍率補正機構及溫控系統,可以較以往擁有更精細更穩定的重疊精度。新型的對位系統使得高速高精度的對位計測成為可能,從而顯著提升了設備的生產節拍,在此之上佳能還能提供選購件,使生產節拍獲得進*步的提升。*后在輕薄化需求方面,MPAsp-E813系列增強了玻璃基板的傳送能力,可對應厚度為0.3mm的玻璃基板。